2026-10-26 Orijinal Makale
Yarı iletken üretiminde, çeşitli süreçler için vakum sızdırmazlıkları gereklidir. Sektör raporları, bunların hem Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) hem de Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD) süreçlerindeki özel işlevlerine dikkat çekmektedir. CVD için sızdırmazlıklar, reaksiyon odasında vakumu korur. Bu, bir gofret üzerinde ince bir filmin homojen şekilde oluşmasını sağlar. Sızdırmazlıklar ayrıca odanın içindeki gofretin dönmesini de mümkün kılar. PVD süreçlerinde sızdırmazlıklar benzer bir işlev görür. Hassas ince film biriktirme için gereken kontrollü ortamı korumak amacıyla kullanılırlar.
Bu sızdırmazlıkların kullanımı temel yarı iletken gofret işlemenin ötesine uzanır. Belgelenmiş uygulama alanları arasında, yüksek sıcaklık süreçlerinde vakum bütünlüğünü korudukları tek kristal silisyum fırınları yer alır. Ayrıca, görüntüleme üretimi için kirlilik içermeyen süreçleri destekleyerek Düz Panel Ekran (FPD) üretimine yönelik sistemlere entegre edilirler. Kaplama sistemlerinde, genellikle dönen, yüksekliği ayarlanabilen ve eğimi ayarlanabilen alt tabaka tutucularının bir bileşenidirler. Bu mekanik esneklik, güneş pilleri, bataryalar ve mikroelektronik cihazlarda kullanılan ince filmlerin yenilikçi üretimi için gereklidir.