2026-10-26 Origineel artikel
In de halfgeleiderproductie zijn vacuümafdichtingen vereist voor verschillende processen. Industriële rapporten vermelden hun specifieke functie in zowel Chemical Vapor Deposition (CVD) als Physical Vapor Deposition (PVD). Bij CVD handhaven de afdichtingen een vacuüm in de reactiekamer. Dit zorgt ervoor dat zich een dunne film gelijkmatig op een wafer kan vormen. De afdichtingen maken ook de rotatie van de wafer in de kamer mogelijk. Bij PVD-processen vervullen de afdichtingen een vergelijkbare functie. Ze worden gebruikt om de gecontroleerde omgeving te handhaven die nodig is voor nauwkeurige dunnefilmdepositie.
Het gebruik van deze afdichtingen reikt verder dan de basisverwerking van halfgeleiderwafers. Gedocumenteerde toepassingsgebieden omvatten eenkristal-siliciumovens, waar ze de vacuümintegriteit bij hoge-temperaturenprocessen waarborgen. Ze worden ook geïntegreerd in systemen voor de productie van Flat Panel Displays (FPD), ter ondersteuning van contaminatievrije processen voor beeldschermproductie. Binnen depositiesystemen zijn ze vaak een onderdeel van roterende, in hoogte verstelbare en kantelbare substraathouders. Deze mechanische flexibiliteit is noodzakelijk voor innovatieve vervaardiging van dunne films voor zonnecellen, batterijen en micro-elektronische apparaten.