Kinerja segel ferrofluid dalam sistem deposisi film tipis

Peran segel vakum dalam proses deposisi

Dalam manufaktur semikonduktor, segel vakum diperlukan untuk beberapa proses. Laporan industri mencatat fungsi spesifiknya baik dalam Chemical Vapor Deposition (CVD) maupun Physical Vapor Deposition (PVD). Untuk CVD, segel menjaga vakum di ruang reaksi. Hal ini memungkinkan film tipis terbentuk secara seragam pada wafer. Segel juga memungkinkan rotasi wafer di dalam ruang. Dalam proses PVD, segel menjalankan fungsi serupa. Segel digunakan untuk mempertahankan lingkungan terkendali yang diperlukan untuk deposisi film tipis yang presisi.

Mengatasi tantangan operasional suhu tinggi

Cakupan aplikasi dan integrasi sistem

Penggunaan segel ini melampaui pemrosesan wafer semikonduktor dasar. Area aplikasi yang terdokumentasi mencakup tungku silikon kristal tunggal, di mana segel menjaga integritas vakum dalam proses suhu tinggi. Segel juga diintegrasikan ke dalam sistem produksi Flat Panel Display (FPD), mendukung proses bebas kontaminasi untuk manufaktur layar. Dalam sistem deposisi, segel sering menjadi komponen dari pemegang substrat yang berputar, dapat disesuaikan ketinggiannya, dan dapat disesuaikan kemiringannya. Fleksibilitas mekanis ini diperlukan untuk fabrikasi inovatif film tipis yang digunakan dalam sel surya, baterai, dan perangkat mikroelektronik.